光学玻璃抛光：精密元件的 “镜面秘诀”

在精密光学领域，抛光工艺直接决定镜头、滤光片等元件的成像质量与可靠性。光学玻璃对表面精度与光洁度的要求远高于普通玻璃，往往需达到纳米级标准。

三大专业抛光工艺

机械抛光：适合大尺寸元件，成本低，但效率较慢。
磁流变抛光（MRF）：纳米级精度，可修正复杂曲面，广泛应用于精密光学制造。
离子束抛光（IBP）：原子级精度，适用于极高端光学场景，如天文望远镜与EUV光刻机。

抛光粉选择 3 要点

高性能抛光粉是提升效率与表面质量的关键：
氧化铈（CeO₂）：切削效率高，主流选择，适用于大多数光学玻璃。
氧化锆（ZrO₂）：硬度更高，适合FCD/FK系列等软质玻璃。
全粒径覆盖：粗抛用大粒径粉（1–5μm），精抛用亚微米粉（0.1–1μm），满足不同阶段需求。
优异性能：悬浮稳定、不易沉降，耐腐蚀，易清洗，确保后续镀膜工艺顺利进行。
 

磨澳抛光产品推荐

氧化锆抛光液
纳米级颗粒，切削力强
表面粗糙度可低至1nm
添加抗腐蚀助剂，有效解决氟化物玻璃的“白点”问题
应用：相机镜头、激光光学元件、AR/VR 光学镜片

氧化铈抛光液（精密型）
粒径均匀（0.1–1μm），效率提升30%以上
兼容磁流变与离子束抛光工艺
中性配方，适合多层镀膜前的精抛处理
应用：光刻机透镜、天文望远镜镜面、精密滤光片

氧化铈抛光粉（多型号）
从5μm粗抛到0.05μm超精抛全覆盖
支持不同玻璃材质与工艺的定制化需求

核心应用领域

相机镜头
激光光学元件
AR/VR 光学镜片
光刻机透镜
天文望远镜镜面
精密滤光片